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韓國帕克原子力顯微鏡XE15介紹
點擊次數(shù):563 更新時間:2023-04-21

韓國帕克原子力顯微鏡XE15概述

Park XE15具備多個特殊功能,是共享實驗室處理各類樣品、研究員進行多變量實驗、失效分析師研究晶片等的不ER選擇。合理的價格搭配強健的性能設置,使其成為業(yè)內(nèi)性價比樶高的大型樣品原子力顯微鏡。

MultiSample™多重采樣TM掃描器帶來樶便捷樣品測量

– 多樣品一次性自動成像

– 特殊設計的多樣品夾頭,最多可承載16個獨立樣品

– 全自動XY樣品載臺,行程范圍達200 mm x 200 mm。

無軸間耦合提高掃描精度

– 兩種獨立閉環(huán)XY和Z平板式掃描

– 平板式和線性XY掃描可達100μm x 100μm,且殘余壓彎小

– 整個掃描范圍內(nèi)的異面移動小于2nm

– 強力掃描器達25μm Z掃描范圍

– 精確的高度測量

Non-Contact™(真正非接觸TM)模式延長針尖使用壽命、改善樣品保存及精度

– 其Z掃描頻寬是壓電管基礎系統(tǒng)的10倍

– 非接觸式可降低針尖磨損、延長使用壽命

– 成像分辨率高于同類原子力顯微鏡

– 降低樣品干擾,提高掃描精度

提供最佳用戶體驗

– 開放式側面接入,提高樣品及針尖更換效率

– 預對準的針尖安裝和軸上俯視法可簡單直觀地實現(xiàn)激光對準

– 燕尾鎖封片方便鏡頭拆卸

– 界面帶自動設置功能,方便用戶使用

多種模式與選項

– 綜合性測量模式及特性設置,是我司最佳通用型原子力顯微鏡

– 多種可選配件及更新,擴展性能*

– 為缺陷分析提供*電氣測量

韓國帕克原子力顯微鏡XE15特點

 100um x 100 um掃描范圍的XY柔‘導向掃描器

XY掃描器含系統(tǒng)二維彎曲及強力壓電堆疊,可使極小平面外移動形成較大的正交運動,并能快速響應,實現(xiàn)精確的樣品納米級掃描。

★ 柔性導向強力Z掃描器

在強力壓電堆疊的驅動及彎曲結構的引導下,其硬度允許掃描器高速豎直運動,較傳統(tǒng)原子力顯微鏡掃描器更加高速。樶大Z型掃描范圍搭配遠程Z掃描器(選配)可延長12μm至25μm。

★ 滑動連接的超亮二極管頭

通過將原子力顯微鏡頭沿楔形軌道滑動,可輕松將其插入或取出。低相干的超發(fā)光二極管頭可實現(xiàn)高反射表面的精確成像和力-矩光譜的精確測量。超亮二極管頭的波長幫助減輕干擾問題,因此用戶在可見光譜實驗中也可使用本產(chǎn)品。

★ 多樣品夾頭

特殊設計的多樣品夾頭,做多可承載16個獨立樣品,由多重采樣掃描器自動按順序掃描。特殊的夾頭設計為接觸樣品針尖預留了邊通道。

★ 選配編碼器的XY自動樣品載臺

自動集成XY載臺可輕松并精確控制樣品的測量位置。XY樣品載臺的行程范圍可配置為150 mm x 150 mm或200 mm x 200 mm。若搭配自動載臺使用編碼器,可提高樣品定位的精確度和重復性。編碼XY載臺工作時分辨率為1 μm,重復率為2 μm。編碼Z載臺的分辨率為0.1 μm,重復率為1 μm。

★ 高分辨率數(shù)碼變焦感光元件攝像頭

高分辨率數(shù)碼感光元件攝像頭利用直接同軸光學,具備變焦功能,無論是否搖攝均可確保圖像具有清晰的成像質量。

★ 垂直對齊的自動Z載臺及聚焦載臺

Z載臺和聚焦載臺可將懸臂嚙合到樣品表面上,同時確保用戶視野清晰穩(wěn)定。聚焦載臺是由軟件控制自動運行的,因此滿足透明樣品及液態(tài)元件應用所需精度。

★ 彎曲基底解耦XYZ掃描器

Z掃描器與XY掃描器完QUAN解耦。XY掃描器在水平面上移動樣品,同時Z掃描器豎直移動探針。

此配置以最小異面移動,實現(xiàn)了平板式XY掃描。此XY掃描同時還具有高正交性與線性。為探測最小樣品的特性,幫助最快運動平面成像,Park Systems設計了業(yè)內(nèi)0.5?以下的本底噪聲標準設備。使用“零掃描"探測本地噪聲數(shù)據(jù)。

★ 真正非接觸模式延長針尖使用壽命

 XE系列原子力顯微鏡已成功搭配強力Z掃描系統(tǒng)的真正非接觸模式。真正非接觸模式下,使用的是相吸而非相排斥的內(nèi)部原子力。

真正非接觸模式因此成功地保持了針尖樣品納米級間距,改善了原子力顯微鏡圖像,保持針尖的銳利,因此有效延長了針尖使用壽命。

★ 預對準懸臂支撐

預先安裝在探針支撐上,因此不需要嚴格對齊激光束

★ 高分辨率的直接同軸光學元件

用戶可直接俯視觀看樣品,操控樣品表面,從而很容易就能找到目標區(qū)域。高分辨率數(shù)碼攝像頭具備變焦功能,無論是否搖攝均可確保圖像具有清晰的成像質量。

★ 帶DSP控制芯片的XE控制電子元件

原子力顯微鏡發(fā)出的納米級信號將由高性能Park XE電子元件控制并處理。Park XE電子元件為低噪聲設計,配備高速處理單元,可成功實現(xiàn)真正非接觸™模式,是納米級成像及電壓電流精準測量的理想選擇。

– 600 MHz、4800 MIPS速度的高性能處理單元

– 低噪聲設計,適合電壓電流精準測量

-通用系統(tǒng),各SPM技術均可得到應用

– 外部信號接入模塊,存取原子力顯微鏡輸入/輸出信號

– 樶多16個數(shù)據(jù)成像

– 樶大數(shù)據(jù)尺寸:4096 x 4096像素

– 16位ADC/DAC,速度達500 kHz

– TCP/IP連接,隔離計算機接出電噪